CRF等離子火焰處理機(jī)對(duì)雙陶瓷基片臺(tái)構(gòu)造有著匯聚等離子的作用：
       金剛石有著高的硬度、熱導(dǎo)率、化學(xué)穩(wěn)定性以及光學(xué)透過率等物理和化學(xué)性能，這些優(yōu)異性能，等離子火焰處理機(jī)使得金剛石在許多領(lǐng)域都可以作為一種理想材料。例如可以用作電子束引出窗口、高頻高功率電子器件、高靈敏的表面聲學(xué)波濾波器、切削工具等。

      射頻CRF等離子火焰處理機(jī)化學(xué)氣相沉積（MPCVD）法制備金剛石，MPCVD法制備金剛石的優(yōu)勢(shì)變得非常明顯，世界高端金剛石基本上是通過MPCVD法制備的，與其他生長(zhǎng)方法相比，MPCVD法具有無極放電、生長(zhǎng)速度快、金剛石雜質(zhì)少等優(yōu)點(diǎn)，成為金剛石生長(zhǎng)的理想方法。
       近年來，MPCVD技術(shù)取得了很大進(jìn)展，對(duì)金剛石沉積工藝參數(shù)影響的研究已經(jīng)趨于成熟，但對(duì)MPCVD裝置諧振腔的研究還有待進(jìn)一步深人。微波諧振腔是MPCVD裝置中的核心部件，不同的射頻等離子火焰處理機(jī)微波諧振腔構(gòu)造會(huì)影響電場(chǎng)強(qiáng)度及分布，從而影響等離子狀態(tài)，等離子火焰處理機(jī)對(duì)金剛石沉積質(zhì)量和速率有相應(yīng)影響。MPCVD裝置微波諧振腔的構(gòu)造研究對(duì)于金剛石生長(zhǎng)方面是有著價(jià)值的。
      常用的MPCVD法生長(zhǎng)金剛石所用的諧振腔有不銹鋼板諧振腔式和石英鐘罩式，石英鐘罩式利于生長(zhǎng)大面積的金剛石薄膜，但速率較慢且容易污染石英管，而不銹鋼板諧振腔式設(shè)備則有著生長(zhǎng)速率快的特點(diǎn)。