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CRF低溫等離子設(shè)備增強(qiáng)單量子點(diǎn)技術(shù)熒光輻射源，改善產(chǎn)品發(fā)光成效品質(zhì)

CRF低溫等離子設(shè)備增強(qiáng)單量子點(diǎn)技術(shù)熒光輻射源，改善產(chǎn)品發(fā)光成效品質(zhì): 用作量子點(diǎn)技術(shù)發(fā)光的定向耦合輸出天線，金島膜結(jié)構(gòu)增強(qiáng)了PL收集效率，得到了較高的光譜收集效率，但對(duì)飽和激發(fā)功...
發(fā)布時(shí)間:2022-02-10
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工作壓力對(duì)等離子清潔效果的干擾

工作壓力對(duì)等離子清潔效果的干擾: 工作壓力是等離子清潔的重要參數(shù)之一。壓力的提升意味著等離子密度的提升和粒子平均能量的減低。化學(xué)反應(yīng)主導(dǎo)的等離子密度的提升可以顯著提高等離子系統(tǒng)...
發(fā)布時(shí)間:2022-02-09
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等離子處理活化改性機(jī)系統(tǒng)

等離子處理活化改性機(jī)系統(tǒng): 等離子清洗等離子工藝技術(shù)具備工藝技術(shù)簡(jiǎn)便、操控便捷、制作加工速度更快、加工處理效果更好、環(huán)境污染問(wèn)題小、環(huán)保節(jié)能等獨(dú)到之處，可取得傳統(tǒng)的有機(jī)化學(xué)方式難以實(shí)現(xiàn)的加工處理功效。介紹了等離子工藝技術(shù)在無(wú)機(jī)粉末表層改性中的運(yùn)用。等離子改性簡(jiǎn)述，現(xiàn)階段，低溫等離子普遍使用于無(wú)機(jī)粉末改性方面。低溫等離子通常采用等離子加工處理。等離子輔助化學(xué)氣相沉積和等離子引起的接枝聚合。 1.等離子加工處理等離子加工處理通常是指非聚合物氣體末顆粒表層的物理或有機(jī)化學(xué)CO2.NH3等反應(yīng)性氣體）對(duì)粉末顆粒表層的物理或化學(xué)作用的過(guò)程。在處理過(guò)程中，等離子中的自由基、電子等高能粒子和粉末顆粒的表層作用根據(jù)腐蝕和沉積的降解和交聯(lián)，在粉末顆粒表層產(chǎn)生極性基團(tuán)、自由基等活性基團(tuán)，實(shí)現(xiàn)親水化加工處理。 2.等離子輔助化學(xué)氣相沉積等離子輔助化學(xué)氣相沉積通常是指根據(jù)等離子表層活化引入活性基團(tuán)，隨后在粉末顆粒表層生成新的表層或塑料薄膜。 3.聚合等離子接枝等離子接枝聚合是對(duì)粉末顆粒進(jìn)行等離子加工處理，利用表層產(chǎn)生的活性自由基引起烯單體在材料表層聚合。與材料表層引入的單官能團(tuán)相比，接枝鏈具備穩(wěn)定的化學(xué)性質(zhì)，使材料表層具備長(zhǎng)期的親水性。接枝速率與等離子加工處理功率、加工處理時(shí)間、單體濃度、接枝時(shí)間、溶劑性能等因素有關(guān)。
發(fā)布時(shí)間:2022-02-06
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大氣等離子清洗機(jī)強(qiáng)化后明顯增強(qiáng)了材質(zhì)的親水性和抗應(yīng)力腐蝕等特性

大氣等離子清洗機(jī)強(qiáng)化后明顯增強(qiáng)了材質(zhì)的親水性和抗應(yīng)力腐蝕等特性: 當(dāng)應(yīng)力波的壓力峰值超過(guò)材質(zhì)的彈性限一定時(shí)間，就會(huì)在材質(zhì)表層形成密集穩(wěn)定的位錯(cuò)結(jié)構(gòu)，也可能產(chǎn)生孿晶等顯微缺陷的同...
發(fā)布時(shí)間:2022-02-03
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誠(chéng)峰plasma在IC封裝領(lǐng)域內(nèi)的應(yīng)用將越來(lái)越廣泛

誠(chéng)峰plasma在IC封裝領(lǐng)域內(nèi)的應(yīng)用將越來(lái)越廣泛：目前的電子元器件清洗，主要是用plasma清洗。傳統(tǒng)的電子元件采用濕法清洗，電路板上的一些元件，如晶體振動(dòng)電路，都有金屬外殼，清洗后，...
發(fā)布時(shí)間:2022-01-29
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