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CRF plasma 等離子清洗機

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真空等離子處理機

CRF-VPO-8L-S

超大處理空間，提升處理產(chǎn)能，采用PLC+觸摸屏控制系統(tǒng)，精準的控制設(shè)備運行；

可按照客戶要求定制設(shè)備腔體容量和層數(shù)，滿足客戶的需求；保養(yǎng)維修成本低，便于客戶成本控制；

高精度，快響應(yīng)，良好的操控性和兼容性，完善的功能和專業(yè)的技術(shù)支持。

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設(shè)備詳細數(shù)據(jù)

       等離子清洗機還可依據(jù)特定的情況更改一些材料的表層特性。等離子設(shè)備在清洗過程中的輝光放電能提高這些材料的黏附性、相溶性和潤滑性。清洗機電源選用RF射頻電源，穩(wěn)定可靠的功放模塊和DC模塊，確保了電源的RF輸出功率輸出，采用高品質(zhì)的電子元器件，確保了產(chǎn)品可靠性。

深圳誠峰智造等離子清洗機

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  • 專業(yè)的研發(fā)團隊

    擁有多名從業(yè)十多年的組裝工程師

  • 先進的設(shè)備

    認真對待每一次設(shè)備試驗

  • 嚴格的質(zhì)量控制

    設(shè)備出廠前連續(xù)24小時運行調(diào)試

  • 完善的服務(wù)體系

    集研發(fā)、制造、銷售以及售后服務(wù)為一體的等離子設(shè)備高新技術(shù)企業(yè)

  • 服務(wù)行業(yè)領(lǐng)域廣泛

    專注等離子研發(fā)20年，服務(wù)多種行業(yè)

  • 可特殊定制設(shè)備

    完全按照客戶需求制作設(shè)備

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