解析等離子體清洗材料時(shí)為何要用氮?dú)獾哪兀?/h3>

       等離子體清洗常用氣體就是氮?dú)猓∟2）。這種氣體主要是配合在線式等離子對(duì)材料表面活(化)和改性的應(yīng)用。當(dāng)然真空環(huán)境下也可以使用。氮?dú)猓∟2）是提高材料表面侵潤(rùn)性的不二選擇。氮?dú)庾鳛橐环N不活潑氣體，在等離子體清洗的過程中，主要作為非反應(yīng)性氣體，氮等離子處理能提高材料的硬度和耐磨性。在某些情況下氮?dú)庖材茏鳛橐环N反應(yīng)性氣體，形成氨的化合物。更多的情況下等離子體中使用氮?dú)膺€是用作一種非反應(yīng)性氣體。等離子體一種全新的高科技技術(shù)，利用等離子體來達(dá)到常規(guī)清洗方法無(wú)法達(dá)到的效(果)。等離子體是物質(zhì)的一種狀態(tài)，也叫做物質(zhì)的第四態(tài)，并不屬于常見的固液氣三態(tài)。對(duì)氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。等離子體的”活性”組分包括:離子、電子、原子、活性基團(tuán)、激發(fā)態(tài)的核素(亞穩(wěn)態(tài))、光子等。等離子清洗機(jī)就是通過利用這些活性組分的性質(zhì)來處理樣品表面，從而實(shí)現(xiàn)清潔、涂覆等目的。

       等離子體按照氣體來分可分為以下兩種：
       活潑氣體和不活潑氣體等離子體：根據(jù)產(chǎn)生等離子體時(shí)應(yīng)用氣體的化學(xué)性質(zhì)不同， 可分為不活潑氣體等離子體和活潑氣體等離子體兩類，不活潑氣體如氬氣（Ar）、氮?dú)?（N2）、氟化氮（NF3）、四氟化碳（CF4）和空氣等，活潑氣體如氧氣（O2）、氫氣（H2） 等，不同類型的氣體在清洗過程中的反應(yīng)機(jī)理是不同的，活潑氣體的等離子體具有更強(qiáng)的化學(xué)反應(yīng)活性。不同特性的氣體，它們用于清洗的污染物也須有不同選擇。 當(dāng)一種氣體滲入一種或多種額外氣體時(shí)，這些元素的混合氣體組合，能產(chǎn)生我們所希望的蝕刻與清洗效(果)。借助等離子電漿中的離子或高活性原子，將表面污染物撞離或 形成揮發(fā)性氣體，再經(jīng)由真空系統(tǒng)帶走，達(dá)到表面清潔的目的。等離子體形成過程，在高頻電場(chǎng)中處于低氣壓狀態(tài)的氧氣、氮?dú)狻⒓淄?、水蒸氣?氣體分子在輝光放電的情況下，可以分解出加速運(yùn)動(dòng)的原子和分子。這樣產(chǎn)生的電子在 電場(chǎng)中加速時(shí)會(huì)獲得高能量，并與周圍的分子或原子發(fā)生碰撞，結(jié)果使分子和原子中又 激發(fā)出電子，而本身又處于激發(fā)狀態(tài)或離子狀態(tài)，這時(shí)物質(zhì)存在的狀態(tài)即為等離子體狀 態(tài)。在等離子體中除了氣體分子、離子和電子外，還存在受到能量激勵(lì)狀態(tài)的電中性的 原子或原子團(tuán)（又稱自由基），以及等離子體發(fā)射出的光線，其中波的長(zhǎng)短、能量的高低在等離子體與物質(zhì)表面相互作用時(shí)有著重要作用。